真家 大樹

真家 大樹Oki MAYA

パートナー
1976年生まれ
対応言語:日本語、英語
専門分野:電気・情報

経歴

2004年
当事務所に加入。電子全般、特にアナログ回路の特許出願を多数担当。
2000~2004年
大手電器メーカー勤務。携帯電話用半導体デバイスの設計・開発に従事。高周波アナログ回路設計技術、無線通信技術を習得。
2000年
慶応義塾大学大学院理工学研究科修士課程修了。レーザプラズマを用いた軟エックス線レーザに関する研究に従事。修士論文『Ni様Kr軟X線レーザに関する研究』
1998年
慶応義塾大学理工学部電気工学科卒業。

著作

  • 『知的財産のビジネス・トラブルQ&A』、中央経済社、2004年12月
  • "Design of an Ultrahigh-Gain Ni-like Kr Soft-X-Ray Laser by Use of an Optical-Field-Induced Ionization-Initiated Transient Collisional Excitation Scheme", Jpn. J. Appl. Phys, Vol.40(2001) pp.153-158

メンバー

  • 日本弁理士会(JPAA)

資格

  • 2006年 特定侵害訴訟代理権
  • 2001年 弁理士試験合格(登録第13321号)

実務分野

  • 特許/実用新案
  • 訴訟
  • コンサルテーション

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